渗透性好——表面张力低，这意味着液体可以很容易地进入或离开复杂几何形状的部分。清洗设备厂家可用于替代人工来清洁工件表面 油、 蜡、 尘、 氧化层等污渍与污迹的机械设备。硅片清洗机半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。 清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。工业清洗机主要是用于清洗零件，电路板，小型的部件。主要应用于军工，航天，汽车等行业。 主要是用于清洗零件，电路板，小型的部件。微小的螺纹和盲孔中的污染物也可以被清洗干净。无化学残留，包容性强——溶剂包容性强，能广泛溶解大多数污染物。用溶剂清洗过的零件干燥后，零件表面不会有化学残留物。虽然人们普遍认为水基表面活性剂是“脏剂”，而且这些表面活性剂的化学物质在大量的生产过程中使用，但是如果这些表面活性剂没有漂洗彻底，这些不挥发的化学残留物会对产品的质量和安全造成一定的隐患。清洁质量——在全封闭的溶剂金属清洗系统中，独立蒸馏系统每个清洗循环中蒸馏后的清洁溶剂还提供纯净的溶剂蒸汽雾和一致的零件清洗质量。水基清洗技术不能通过水蒸馏、水循环和清洗来实现，主要是通过过滤装置和水资源的大规模利用来实现。充分干燥和安全——有机溶剂挥发，机械部件快速彻底干燥，只需对比水和溶剂的潜热，因为水的潜热是2280kj/kg，而溶剂的潜热是200-300kj/kg。由于水的潜热是溶剂的10倍，水基清洗很难彻底干燥机械零件。但溶剂的潜热只有水的10%，溶剂清洗快速高效，防止锈斑。节能高效——由于清洗室采用真空技术，沸点降低，蒸馏过程中剩余热能立即气化，可提高效率，达到每小时10个洗涤周期。环境保护-有机溶剂的缺点是空气污染，但使用全封闭清洁系统后，这些污染可以得到有效控制。同样，由于水基技术严重依赖表面活性剂的使用，这些不能完全降解的表面活性化学物质将对水资源造成巨大的残留污染。据计算，清洗后的环境污染——水污染的影响是使用有机溶剂的200-2000倍。全封闭溶剂清洗技术，所有的污染物都会被隔离在蒸馏箱中，因此我们不再需要考虑如何处理大量的“脏溶剂”。此外，目前的溶剂供应商将提供特殊的溶剂运输系统，用于封闭和安全地储存和运输溶剂和溶剂残留物。
