超声波清洗槽的设计

是以生产、销售、维护超声波清洗机为一体的公司，近年来公司不断发展技术力量，创新生产技术手段，生产的产品销往全国各地，受到客户的一致好评，今天让大家了解一下超声波清洗槽的设计。硅片清洗机半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。 清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。胶塞清洗机故名思意是清洗胶塞的机器，一般用作于制药行业，随着GMP的要求越来越高，制药行业对胶塞的清洗越来越重视，胶塞清洗从早的手工清洗，到全自动清洗经历了一个漫长的过程。清洗设备厂家可用于替代人工来清洁工件表面 油、 蜡、 尘、 氧化层等污渍与污迹的机械设备。超声波清洗槽由内槽和外壳组成，内槽的外表面(一般在槽底外表)粘接超声波换能器，槽内盛清洗液。槽一般用耐腐蚀的不锈钢板制成，过于厚会影响超声波的辐射，槽的内壁，尤其是粘有换能器的辐射板要平整抛光，不能有伤痕，否则易产生空化腐蚀，缩短使用寿命。为避免被清洗工件直接与槽壁板接触而划伤，一般用镂空吊篮(清洗篮)或支架将清洗件悬吊在清洗液中。网篮的骨架应尽可能地小而轻，一般用不锈钢丝编成或用其它反射声良好的材料做成。结构上要使超声波受阻小而清洗液易于流动。内槽的尺寸要根据清洗件的大小和形状而定。清洗件的总表面积大应大于内槽的体积。粘有换能器的辐射板(如槽底板)所承受的电功率强度一般低于1.5W?CM2)(用电压换能器时，大多数应在0.5-1w/cm2之间)。过高的强度会加速辐射板表面的空化腐蚀，同时由于过剧烈的空化所产生的气泡会影响能量传递，使远离辐射面得液体空间声强变弱而达不到均匀清洗的目的。在普通的清洗槽中，由于液面的反射，在清洗槽中会产生驻波，使得在液体空间有些区域声压小(波节处)，有些地方声压大(波腹处)而造成清洗干净程度不均匀。为减少驻波的形成，有时清洗槽的形状要特别设计，或采取其他措施，例如扫频工作方式。清洗件在槽中的排列要有一定的间隔，而窄小的面应朝向换能器的辐射面，以免妨碍声辐射到整个清洗槽空间。气相清洗机旋转式除锈机QJX-56手动超声波清洗设